라디칼염 도판트 썸네일형 리스트형 도쿄대, 높은 전도특성을 가진 도전성 고분자를 개발 산화력이 강한 라디칼염 도판트를 독자적으로 개발 도쿄대 연구진은 2021년 4월 기존에 비해 높은 결정성과 전도 특성을 가진 도전성 고분자를 개발했다고 발표했다. 종전보다 산화력이 강한 라디칼염 도판트를 자체 개발해 이를 고분자 반도체에 작용시킴으로써 실현됐다. 고분자 반도체는 인쇄기술을 이용해 성막이 가능하기 때문에 차세대 일렉트로닉스 재료로 주목받고 있다. 다만 고분자반도체를 도전성 재료로 사용하려면 높은 전도특성을 실현할 필요가 있기 때문에 고분자의 결정성을 높이는 연구 등이 진행되어 왔다. 전기전도특성 향상을 위해 일반적으로 고분자 반도체와 산화환원반응을 일으키는 도판트 분자를 고분자막에 도입하는 기법이 이용된다. 그런데 이 방법대로라면 도판트 분자는 음이온으로 고분자막 내부에 남지만 랜덤하게 배.. 더보기 이전 1 다음
